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當前位置：首頁產品中心晶體樣品制備光學浮區爐

  • ScIDre HKZ高溫高壓光學浮區爐

    德國SciDre公司推出的高溫高壓光學浮區法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達300bar，甚至10-5mbar的高真空

    更新時間：2024-11-18
    產品型號：ScIDre HKZ
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